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- Définition - Que signifie nanolithographie?
- Introduction à Microsoft Azure et au nuage Microsoft | Tout au long de ce guide, vous apprendrez ce qu'est le cloud computing et comment Microsoft Azure peut vous aider à migrer et à exploiter votre entreprise à partir du cloud.
- Techopedia explique la nanolithographie
Définition - Que signifie nanolithographie?
La nanolithographie est une branche de la nanotechnologie et le nom du processus permettant d’imprimer, d’écrire ou de graver des motifs au niveau microscopique afin de créer des structures incroyablement petites. Ce processus est généralement utilisé pour créer des dispositifs électroniques plus petits et plus rapides tels que des micro / nanopuces et des processeurs. La nanolithographie est principalement utilisée dans divers secteurs de la technologie allant de l'électronique au biomédical.Introduction à Microsoft Azure et au nuage Microsoft | Tout au long de ce guide, vous apprendrez ce qu'est le cloud computing et comment Microsoft Azure peut vous aider à migrer et à exploiter votre entreprise à partir du cloud.
Techopedia explique la nanolithographie
La nanolithographie est un terme général utilisé pour décrire divers processus de création de motifs à l'échelle nanométrique sur différents supports, dont le plus commun est le silicium, un matériau semi-conducteur. La nanolithographie a pour objectif principal de réduire les dispositifs électroniques, ce qui permet de regrouper davantage de composants électroniques dans des espaces plus petits, c’est-à-dire des circuits intégrés plus petits qui permettent de créer des dispositifs plus petits, plus rapides et moins coûteux à fabriquer car moins de matériaux sont nécessaires. Cela augmente également les performances et les temps de réponse car les électrons ne doivent parcourir que de très courtes distances.Certaines techniques utilisées en nanolithographie sont les suivantes:
- Lithographie à rayons X - Mise en œuvre par approche de proximité et repose sur les rayons X en champ proche dans la diffraction de Fresnel. Il est connu d’étendre sa résolution optique à 15 nm.
- Double patterning - Méthode utilisée pour augmenter la résolution de la hauteur d'un processus lithographique en incorporant des motifs supplémentaires entre les espaces de motifs déjà édités dans la même couche.
- Lithographie à écriture directe à faisceaux électroniques (EBDW) - Le processus le plus couramment utilisé en lithographie, qui utilise un faisceau d'électrons pour créer des motifs.
- Lithographie ultraviolette extrême (EUV) - Forme de lithographie optique utilisant des longueurs d'onde de lumière ultra-courtes de 13,5 nm.